技术双核:i-SE技术和ut-polySi技术 
据一道新能首席技术官宋登元博士介绍,从2019年第1条TOPCon研发和生产线建立,一道新能持续加大在N型技术领域科技投入力度,持续引领N型技术发展,已经研发成功三代技术路线。
此次发布的TOPCon3.0是在2.0基础上的全面升级。
2.0技术是以多主栅16BB技术和超高发射极方块电阻的为技术特征,背面通过SiOx/掺杂PolySi消除金属与硅接触复合,正面通过16BB多主栅与超细金属栅线叠加超高发射极方块电阻,增强了钝化效果,大幅降低了表面的光反射,提升了太阳电池效率。
一道新能TOCon3.0核心电池技术​​

一道新能DAON TOPCon电池技术路线

然而进一步提升效率最大的瓶颈是提升TOPCon电池前表面短波长光谱的利用率和背表面长波光谱的利用率。

一道新能通过多年的技术积累,研发成功了具有自主知识产权的高能量激光i-SE(industry-selected emitter)产业化技术,有效的降低前表面光生载流子的复合,提升短波长光谱的利用率;

而背面超薄ut-polySi(Ultrathin Poly Si)技术能有效的降低背面多晶硅层对长波长光谱的寄生吸收,大幅提升长波长光谱的利用率,这两种技术完美的结合攻克了TOPCon太阳电池效率提升的瓶颈,使短波长和长波长光量子效率分别提升了40.6%和15.3%,电池效率平均提升超过25.2%。

一道新能TOCon3.0核心电池技术​​TOPCon3.0光量子效率的提升
核心技术:精密扩散与微量掺杂
电池正面i-SE的核心是实现金属栅线下面的局域的精密扩散,形成符合余误差函数的杂质分布,这涉及到在大规模工业化生产条件下的激光光斑的塑形技术、焦点控制技术、多物理场耦合技术以及硼杂质的源的沉积技术
一道新能通过高密度激光,精确控制焦点在硅片处的能量场分布和温度场分布,通过精密扩散形成了与激光能量分布一致的高浓度掺杂区。
电池背面超薄ut-polySi 硅技术的核心是沉积超薄的高质量多晶硅薄膜,同时在多晶硅薄膜中掺入少量的杂质原子。
一方面薄的多晶硅可以降低红外光的寄生吸收,提升红外光的利用率,另一方面掺入少量的杂质原子能够提升SiOx/Poly-Si钝化接触性能,也能进一步降低对到达电池背面长波长光的吸收。
TOPCon3.0使用低压化学气象沉积(LPCVD)超薄的高质量多晶硅薄膜,这是基于热分解的多晶硅薄膜生长技术,在所有的多晶硅生长方法中(PECVD、PVD等)具有最高的多晶硅质量。
一道新能TOCon3.0核心电池技术​​一道新能TOCon3.0核心技术

来源:一道新能

原文始发于微信公众号(光伏产业通):一道新能TOCon3.0核心电池技术​​

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作者 808, ab